Nwyon ysgythru a ddefnyddir yn gyffredin ar gyfer lled-ddargludyddion

Yn y broses weithgynhyrchu sglodion, nid yn unig mae angen offer craidd neu ddeunyddiau megis peiriannau lithograffeg, peiriannau ysgythru, photoresists, a wafferi silicon, ond hefyd nwy arbennig yn y diwydiant a elwir yn nwy electronig. Fel un o'r deunyddiau crai i fyny'r afon yn y gadwyn ddiwydiannol, mae nwyon electronig arbennig yn ymwneud â gwahanol gysylltiadau megis ysgythru, glanhau, twf epitaxial, a mewnblannu ïon. Maent yn anhepgor i'r diwydiant gweithgynhyrchu sglodion cyfan, felly fe'u gelwir yn "waed" lled-ddargludyddion.

Gan fod nwy electronig yn effeithio ar berfformiad, integreiddio, cynnyrch a dangosyddion allweddol eraill cylchedau integredig, mae gofynion uchel ar gyfer purdeb nwy electronig. Oherwydd anawsterau proses mawr, mae nwy electronig wedi dod yn ddeunydd ail fwyaf, ac mae ei gyfran cost yn ail yn unig i wafferi silicon.

Nwyon ysgythru a ddefnyddir yn gyffredin ar gyfer lled-ddargludyddion

1. Nwy fflworid:

sylffwr hecsaflworid(SF6)

Sylffwr hecsaflworid SF6 yw un o'r nwyon fflworid a ddefnyddir amlaf mewn ysgythru sych lled-ddargludyddion. Fe'i nodweddir gan ddetholusrwydd uchel a chyfradd ysgythru cryf. Mae'n addas ar gyfer ysgythru deunyddiau cyson dielectrig isel fel silicon ocsid, fflworid silicon, nitrid silicon, ac ati.

Dysgwch fwy am sylffwr hecsaflworid(SF6)>>

carbon tetrafluorid (CF4)

Defnyddir carbon tetrafluorideis CF4 hefyd mewn amrywiol brosesau ysgythru wafferi. Ar hyn o bryd CF4 yw'r nwy ysgythru plasma a ddefnyddir fwyaf yn y diwydiant microelectroneg. Gellir ei ddefnyddio'n helaeth wrth ysgythru deunyddiau ffilm tenau fel silicon, silicon deuocsid, silicon nitrid, gwydr ffosffosilicate a thwngsten, ac wrth lanhau arwynebau dyfeisiau electronig a chelloedd solar. Fe'i defnyddir yn eang hefyd wrth gynhyrchu technoleg laser, inswleiddio cyfnod nwy, rheweiddio tymheredd isel, asiantau canfod gollyngiadau, rheoli agwedd rocedi gofod, ac asiantau dadheintio wrth gynhyrchu cylched printiedig.

Dysgwch fwy am garbon tetrafluoride(CF4)>>

Nitrogen Trifluoride(NF3)

Nwy Nitrogen Trifluoride NF3 sydd â'r gyfradd ysgythru arafaf ymhlith nwyon fflworid, ond mae ganddo ddetholusrwydd da. Mae'n gweithio'n dda pan fydd gwahanol ddeunyddiau wedi'u hynysu oddi wrth ei gilydd ac mae hefyd yn addas ar gyfer ysgythru deunyddiau organig.

Dysgwch fwy am Nitrogen Trifluoride(NF3)>>

2. Nwy Ocsid:

Mae O2 yn nwy ocsid cyffredin mewn ysgythriad sych lled-ddargludyddion a gellir ei ddefnyddio i ocsideiddio ocsidau a deunyddiau metel. Mae gan O2 gyfradd ysgythru araf ond detholusrwydd cryf, felly mae'n addas ar gyfer ysgythru'r rhan fwyaf o ddeunyddiau ocsid.

H2O

Mae H2O yn nwy ocsid gydag ymlacio da a gellir ei ddefnyddio ar gyfer ysgythru ffotoresyddion caled a resinau organig. Fodd bynnag, pan gaiff ei gymysgu â nwy fflworid, bydd yn effeithio ar ddetholusrwydd yr adwaith.

N2O

Gellir defnyddio N2O i ocsideiddio silicon hydrogenaidd a deunyddiau metel. Mae ei gyfradd ysgythru yn gyflymach nag O2, ond mae ei ddetholusrwydd yn waeth nag O2.

Yr uchod yw'r mathau a nodweddion nwyon a ddefnyddir yn gyffredin mewn ysgythru sych lled-ddargludyddion. Mae eu cais yn y broses ysgythru yn bwysig iawn. Ar gyfer gwahanol ddeunyddiau a gwahanol ddibenion ysgythru, mae angen dewis nwyon priodol ar gyfer ysgythru.

Rydym niyn profedigssional ETCHING NWY cyflenwr, wcroeso i chi gysylltu â ni am fwy o fanylion!